上海微电子（SMEE）的光刻机为90nm制程，差距还是有些远的。正是上海微电子90nm制程的光刻机下线之后，ASML才决定给中芯国际提供一台7nm的光刻机，其中的奥妙大家可以推测。
上海微电子和ASML在光刻机上的差距客观反映了我国和西方精密制造领域的差距，最主要的原因可能就是《瓦森纳协定》的限制，由美国、日本、英国、荷兰等40个成员国组成，限制向某些国家出口敏感产品和技术许可，而这个禁售名单就包括我国大陆，比如捷克拟向我国出口“无源雷达设备”时，就遭到了美国的横加阻拦，被迫中止交易。
根据瓦森纳协定的规定，不能给自主CPU代工，也就是不能给龙芯、申威等自主CPU代工和商业化量产，很大程度上影响了自主技术的发展。
总之，我国的光刻机技术与国外先进技术还是有一定差距的，在高端光刻机领域几乎没有“备胎”，所以美国针对华为的“禁售令”，华为通过备胎芯片、备胎操作系统一一解决，但是却无法制造高端芯片，需要依靠台积电等代工，华为能不能挺住，台积电是关键。
